Влияние длительности синтеза на морфологию и структуру углеродных наностенок на поверхности углеродной бумаги

Авторлар

##doi.readerDisplayName##:

https://doi.org/10.26577/RCPh96120265

Кілт сөздер:

углеродные наностены, углеродная бумага, CCP-PECVD, эволюция морфологии, СЭМ, АСМ

Аңдатпа

В работе исследована эволюция морфологии и структурного состояния углеродных наностенок (УНС), выращенных на углеродной бумаге методом ёмкостно-связанного плазменно-усиленного химического осаждения из газовой фазы (CCP-PECVD), в зависимости от длительности синтеза (30-120 мин) при фиксированных параметрах процесса. Морфология покрытия изучена методами сканирующей электронной микроскопии (СЭМ) и атомно-силовой микроскопии (АСМ), а структурные изменения оценены методом Рамановской спектроскопии (λ = 473 нм). Показано, что на ранней стадии (30 мин) УНС формируются островковым образом на дефектах подложки, а при увеличении времени до 60-90 мин происходит интенсивный вертикальный рост и уплотнение массива. По данным АСМ наблюдается рост средней и среднеквадратичной шероховатости (Ra: с 13.91 до 26.91 нм; Rms: с 18.19 до 34.26 нм при 60-120 мин), тогда как пиковая шероховатость Rz возрастает до 90 мин (с 124.3 до 159.3 нм) и далее насыщается (161.1 нм при 120 мин), что указывает на переход от преимущественно вертикального роста к режиму уплотнения и вторичной нуклеации. Рамановские данные подтверждают увеличение дефектности и разупорядочения sp²-сетки с ростом времени синтеза: отношение ID/IG возрастает от 0.61 до 1.84, ширина G-пика увеличивается от 24.8 до 40.9 см-1, а степень графитизации снижается с 40.2 до 27.2 %. Установлено, что около 90 мин достигается оптимальный компромисс между развитием вертикальной морфологии и сохранением структурной упорядоченности углеродной фазы, тогда как 120 мин обеспечивает максимальную дефектность и развитость поверхности, перспективные для приложений, требующих высокой плотности активных центров.

Автор өмірбаяны

  • Б.Е. Жумадилов, Институт прикладных наук и информационных технологий, Алматы, Казахстан; Казахстанско-Британский технический университет, Алматы, Казахстан

    Научный сотрудник Казахстанско-Британского технического университета Института прикладных наук и информационных технологий, Алматы, Қазақстан, e-mail: zhumadilovbe@gmail.com

Жүктеулер

Жарияланды

2026-03-19

Журналдың саны

Бөлім

Plasma Physics

Осы автордың (немесе авторлардың) ең көп оқылатын мақалалары