Взаимодействие пористого материала с высокочастотной плазмой

Авторы

  • G. Paskalov ТОО «Plasma Microsystems», США, г. Лос-Анджелес; ELXUS, LLC, США, Oук Хилл, г. Вирджиния
  • R. Jarvis ELXUS, LLC, США, Oук Хилл, г. Вирджиния
  • L. Adjarova Энергетическое агентство Пловдива, Болгария, г. Пловдив
  • E. Benova Софийский университет им. Святого Климента Охридского, Болгария, г. София http://orcid.org/0000-0001-6438-0522
  • B. Harmison ELXUS, LLC, США, Oук Хилл, г. Вирджиния

DOI:

10.26577/RCPh.2020.v74.i3.05

Ключевые слова:

разряд низкого давления, модификация поверхности

Аннотация

Воздействие плазмы на материал осуществляется в результате ряда комплексов, взаимосвязанных процессов энерго-, массо- и перезарядки частиц плазмы с подложкой. Результатом таких взаимодействий является десорбция атомов и молекул с подложки, распыление и испарение материала в виде частиц, а также изменение структуры и фазового состояния. Во время плазменной обработки материалы взаимодействуют с активными и неактивными частицами плазмы, имеющими высокую кинетическую или потенциальную энергию. Доказано, что существуют физическое и химическое взаимодействие частиц, где при этом физическое взаимодействие частиц происходит, в основном, за счёт кинетической энергии, которая может на несколько порядков превышать тепловую энергию. Заряженные частицы также обладают высокой потенциальной энергией, так называемой энергией рекомбинации. В связи с этим частицы при столкновении с физически твёрдым материалом могут распылять твёрдый материал.

В данной статье представлены результаты исследования низкотемпературных модификационных взаимодействий с пористым материалом. Используются малоэнергетические источники индукционных и ёмкостных радиочастотных разрядов при давлении 0,1 - 2 торр. Объектами исследований являются образования модифицированных углеродных сорбентов.

Опубликован

11.09.2020

Выпуск

Раздел

Физика конденсированного состояния и проблемы материаловедения. Нанонаука

Как цитировать

Взаимодействие пористого материала с высокочастотной плазмой. (2020). Recent Contributions to Physics, 2020(3), 38-42. https://doi.org/10.26577/RCPh.2020.v74.i3.05