Взаимодействие пористого материала с высокочастотной плазмой
DOI:
10.26577/RCPh.2020.v74.i3.05Ключевые слова:
разряд низкого давления, модификация поверхностиАннотация
Воздействие плазмы на материал осуществляется в результате ряда комплексов, взаимосвязанных процессов энерго-, массо- и перезарядки частиц плазмы с подложкой. Результатом таких взаимодействий является десорбция атомов и молекул с подложки, распыление и испарение материала в виде частиц, а также изменение структуры и фазового состояния. Во время плазменной обработки материалы взаимодействуют с активными и неактивными частицами плазмы, имеющими высокую кинетическую или потенциальную энергию. Доказано, что существуют физическое и химическое взаимодействие частиц, где при этом физическое взаимодействие частиц происходит, в основном, за счёт кинетической энергии, которая может на несколько порядков превышать тепловую энергию. Заряженные частицы также обладают высокой потенциальной энергией, так называемой энергией рекомбинации. В связи с этим частицы при столкновении с физически твёрдым материалом могут распылять твёрдый материал.
В данной статье представлены результаты исследования низкотемпературных модификационных взаимодействий с пористым материалом. Используются малоэнергетические источники индукционных и ёмкостных радиочастотных разрядов при давлении 0,1 - 2 торр. Объектами исследований являются образования модифицированных углеродных сорбентов.
