Атомы внедрения в окта- и тетраэдрических междоузлиях ОЦК кристаллов со свободной поверхностью

Аннотация

Физические свойства кристаллов определяются их химической природой, структурой как всего объема, так и поверхностного слоя. Поверхность металла, ионного или ковалентного кристалла и полупроводника можно рассматривать как особое состояние вещества со своей химией и физикой. Интерес к проблеме поверхности твердого тела, к науке о поверхности, к физике тонких пленок стимулируется достижениями в физике твердого тела, техническими новшествами, возможностями создания новых пленочных материалов с уникальными свойствами, задачами современной техники, требованиями технологии по созданию устройств для вычислительной техники и микроэлектроники.

В настоящей работе рассмотрены процессы перераспределения атомов внедрения по поверхностным и объемным междоузлиям, проведены исследования равновесного распределения внедренных атомов на поверхности и в объеме кристалла, а также влияния внешнего давления на поверхностное и объемное распределение атомов внедрения. Знание процессов перераспределения атомов внедрения по междоузлиям кристалла и вызывающих их причин может позволить целенаправленно формировать эти процессы с целью получения тех или иных физических характеристик материалов. Кинетика перераспределения атомов внедрения по междоузлиям в объеме изучалась для металлов и упорядочивающихся сплавов различных структур.