Спектральные характеристики аргоновой и аргон-метановой плазмы, полученной в RF-DBD реакторе при низком давлении

Р.Е. Жумадилов; Д.Е. Елубаев; Ж.Е. Онайбергенов; А.У. Утегенов

doi:10.26577/RCPh96120266

Авторлар

Р.Е. Жұмаділов Қолданбалы ғылымдар және ақпараттық технологиялар институты, Алматы, Қазақстан; Әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы, Қазақстан https://orcid.org/0000-0001-5089-360X
Д.Е. Елубаев Қолданбалы ғылымдар және ақпараттық технологиялар институты, Алматы, Қазақстан; Әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы, Қазақстан https://orcid.org/0000-0002-5932-4144
Ж.Е. Оңайбергенов Қолданбалы ғылымдар және ақпараттық технологиялар институты, Алматы, Қазақстан; Әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы, Қазақстан https://orcid.org/0009-0008-2286-1406
А.У. Утегенов Қолданбалы ғылымдар және ақпараттық технологиялар институты, Алматы, Қазақстан; Әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы, Қазақстан https://orcid.org/0000-0001-6768-0918

DOI:

https://doi.org/10.26577/RCPh96120266

Кілт сөздер:

диэлектрлік барьерлік разряд, диэлектрлік барьерлік разряд, RF-DBD реакторы, RF-DBD реакторы, оптикалық спектроскопия, оптикалық спектроскопия, аргон плазмасы, аргон плазмасы, аргон-метан плазмасы, аргон-метан плазмасы, плазмалық химия, плазмалық химия

Аңдатпа

Бұл жұмыс әртүрлі қуаттар мен қысымдарда жоғары жиілікті диэлектрлік барьерлік разрядында (RF-DBD) түзілген төмен температуралы аргон плазмасының және аргон-метан қоспасының ерекшеліктері мен спектрлік сипаттамаларын зерттеді. Эксперименттер аргон плазмасы үшін 100 sccm аргон ағынында және 2-ден 12 Вт-қа дейінгі қуат диапазонында және 0,5 және 1,0 Торр қысымында аргон-метан плазмасы үшін Ar:CH₄ = 95:5 қатынасында жүргізілді. Берілген қуаттың жоғарылауымен разряд аймағының кеңеюі және спектрлік сызықтардың интенсивтілігінің жоғарылауы байқалады, бұл плазма тығыздығы мен иондану дәрежесінің жоғарылауына байланысты. Қысымның жоғарылауымен электрондардың еркін жүру ұзындығының қысқаруы және соқтығысу шығындарының жоғарылауы салдарынан сәулеленудің жалпы қарқындылығының төмендеуі байқалады. Метанды енгізу аргон плазмасымен салыстырғанда молекулалық азот пен гидроксил радикалдарының (OH) спектрлік сызықтарының интенсивтілігінің төмендеуіне әкеледі, бұл аргон атомдары мен метанның белсенді бөлшектерін қоздыру пайдасына электрондардың энергиясының қайта бөлінуін көрсетеді. Нәтижелер Ar–CH₄ плазмасындағы физика-химиялық процестерді тереңірек түсінуге ықпал етеді және плазмалық химия және материалтану мәселелерінде RF-DBD разрядтарын қолдану перспективаларын ашады.

Автор өмірбаяндары

Р.Е. Жұмаділов, Қолданбалы ғылымдар және ақпараттық технологиялар институты, Алматы, Қазақстан; Әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы, Қазақстан

автор-корреспондент, PhD докторы, Әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы, Қазақстан. e-mail: rakimzhan@gmail.com
Ж.Е. Оңайбергенов, Қолданбалы ғылымдар және ақпараттық технологиялар институты, Алматы, Қазақстан; Әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы, Қазақстан

Әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы, Қазақстан, e-mail: onajbergenovz@gmail.com
А.У. Утегенов, Қолданбалы ғылымдар және ақпараттық технологиялар институты, Алматы, Қазақстан; Әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы, Қазақстан

PhD докторы, Әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы, Қазақстан. e-mail: almasbek@physics.kz