Исследование температуры электронов в плазме тлеющего разряда при постоянном токе Ar и Ar/C2H2
DOI:
https://doi.org/10.26577/RCPh.2024v90i3-04Ключевые слова:
пылевая плазма, температура электронов, PECVD, плазма с наночастицами, оптическая спектроскопияАннотация
В данной работе предоставлены результаты исследования температуры электронов в аргоновой и аргон-ацетиленовой плазме тлеющего разряда постоянного тока. Для определения основного параметра комплексной плазмы был использован оптик-эмиссионный метод. Зависимость температуры электронов от рабочего давления, напряжения и времени разряда определялась по интенсивности спектральных линий. Напряжение источника варьировалось от 1 кВ до 1,5 кВ, а давление поддерживалось между 0,1–1 торр. В зависимости от времени температура электронов рассчитывалось каждые 20 секунд в течение 200 секундного разряда. Результаты показали, что в аргоновой плазме с повышением давления температура электронов снижается до показателя давления 0,4 торр, последующее увеличение приводит к повышению температуры. Также с увеличением напряжения источника наблюдается снижение температуры электронов в пределах погрешности. Кроме этого, в пылевой плазме (PECVD в Ar-C2H2) температура электронов в зависимости от давления и напряжения источника имела тенденцию, аналогичную той, что наблюдалась в аргоновой плазме. Однако температура электронов в пылевой плазме в зависимости от времени в начальный момент повышается, после резко снижается с течением времени.
