Твердофазное разложение полупроводников InP под действием импульсов лазерного излучения
Кілт сөздер:
лазерное облучение, плотность дислокаций, монокристаллы фосфида индияАңдатпа
Показано, что термические напряжения, возникающие во время действия импульса облучения, приводят к появлению значительного количества дислокаций. Установлено, что плотность дислокаций с увеличением суммарной плотности энергии облучения увеличивается и при 250-300 Дж/см2 составляет около 8,4∙ 107 см-2.
