Твердофазное разложение полупроводников InP под действием импульсов лазерного излучения

Авторлар

  • N.G. Jumamukhambetov Атырауский институт нефти и газа, г. Атырау, Казахстан
  • M.A. Janalieva Атырауский институт нефти и газа, г. Атырау, Казахстан
  • A.S. Dautova Атырауский институт нефти и газа, г. Атырау, Казахстан

Кілт сөздер:

лазерное облучение, плотность дислокаций, монокристаллы фосфида индия

Аңдатпа

Показано, что термические напряжения, возникающие во время действия импульса облучения, приводят к появлению значительного количества дислокаций. Установлено, что плотность дислокаций с увеличением суммарной плотности энергии облучения увеличивается и при 250-300 Дж/см2 составляет около 8,4∙ 107 см-2.

Жүктеулер

Жарияланды

2012-12-21

Журналдың саны

Бөлім

Condensed Matter Physics and Materials Science Problems. NanoScience