ИССЛЕДОВАНИЕ ОПТИЧЕСКИХ СВОЙСТВ ПЫЛЕВОЙ ПЛАЗМЫ В ВЫСОКОЧАСТОТНОМ ЕМКОСТНОМ РАЗРЯДЕ АРГОНА. АРГОННЫҢ ЖОҒАРЫ ЖИІЛІКТІ СИЫМДЫЛЫҚТЫҚ РАЗРЯДЫНДАҒЫ ТОЗАҢДЫ ПЛАЗМАНЫҢ ОПТИКАЛЫҚ ҚАСИЕТТЕРІН ЗЕРТТЕУ
Ключевые слова:
оптическиe свойствa, оптикалық қасиеттерАннотация
В работе приведены результаты экспериментального исследования оптических свойств пылевой плазмы высокочастотного емкостного разряда в аргоне. На основе анализа пространственного распределения спектральных линий показано влияние пылевой компоненты на интенсивность свечения плазмы. Наличие пылевых частиц приводит к уменьшению интенсивности свечения в области заземленного электрода, что может быть следствием поглощения электронов пылевыми частицами. Результаты данной работы могут быть использованы для создания методики бесконтактной диагностики плазменно-пылевых структур. Жұмыста жоғары жиілікті сиымдылықтық разрядтағы тозаңды плазманың оптикалық қасиеттерін тәжірибелік зерттеу жұмыстарының нәтижелері келтірілген. Жоғары жиілікті тозаңды плазманың кеңістіктік спектрлерін талдау негізінде тозаңды құраушының плазманың спектрлік сызықтарының интенсивтігіне әсер ететіндігі көрсетілген. Берілген жұмыстың нәтижелері жоғары жиілікті сиымдылықтық разрядтағы тозаңды плазмаға оптикалық диагностика жүргізуге негіз бола алады.Библиографические ссылки
1. Thomas H., Morfill G., Demmel V., Goree J., Feuerbacher B., and Mohlmann D. // Phys. Rev. Lett. 73, 652. 1994.
2. Chu J.H., and Lin I. // Physica A 205, 183. 1994.
3. Цытович В.Н. // УФН. 1997. Т.197. С.57.
4. Фортов В.Е., Храпак А.Г., Храпак С.А., Молотков В.И., Петров О.Ф. // УФН. 2004. Т.174. №5. С.495-543.
5. Thoma M.H., Kretschmer M., Rothermel H., Thomas H.M., and Morfill G.E. // Am. J. Phys. 73, 420 (2005).
6. Quinn R.A., Cui C., Goree J., Piper J.B., Thomas H., and Morfill G.E. // Phys. Rev. E 53, R2049 (1996).
7. Kersten H., Thieme G., Fröhlich M., Bojic D., Tung D.H., Quaas M., Wulff H., and Hippler R. Pure Appl. Chem., Vol. 77, No. 2, pp. 415–428, 2005.
8. Hayashi Y. and Tachibana K. // Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 804 (1994).
9. Ramazanov T.S., Dzhumagulova K.N., Jumabekov A.N., and Dosbolayev M.K., // Phys. Plasmas 15, 053704. 2008.
10. Maiorov S.A., Ramazanov T.S., Dzhumagulova K.N., Jumabekov A.N., and Dosbolayev M.K., // Phys. Plasmas 15, 093701. 2008.
11. Орлов Л.Н., Ажаронок В.В. // Журн. прикл. спектр., 66, 715. 1999.
12. Ажаронок В.В., И.И. Филатова, Шиманович В.Д., Орлов Л.Н. // J. Appl. Spectroscopy 69, №5, 658. 2002.
13. Райзер Ю.П., Шнейдер М.Н., Яценко Н.А. Высокочастотный емкостной разряда, - Москва. 1995.
14. Райзер Ю.П. Основы современной физики газоразрядных процессов. - М.: Наукаб 1980.
2. Chu J.H., and Lin I. // Physica A 205, 183. 1994.
3. Цытович В.Н. // УФН. 1997. Т.197. С.57.
4. Фортов В.Е., Храпак А.Г., Храпак С.А., Молотков В.И., Петров О.Ф. // УФН. 2004. Т.174. №5. С.495-543.
5. Thoma M.H., Kretschmer M., Rothermel H., Thomas H.M., and Morfill G.E. // Am. J. Phys. 73, 420 (2005).
6. Quinn R.A., Cui C., Goree J., Piper J.B., Thomas H., and Morfill G.E. // Phys. Rev. E 53, R2049 (1996).
7. Kersten H., Thieme G., Fröhlich M., Bojic D., Tung D.H., Quaas M., Wulff H., and Hippler R. Pure Appl. Chem., Vol. 77, No. 2, pp. 415–428, 2005.
8. Hayashi Y. and Tachibana K. // Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 804 (1994).
9. Ramazanov T.S., Dzhumagulova K.N., Jumabekov A.N., and Dosbolayev M.K., // Phys. Plasmas 15, 053704. 2008.
10. Maiorov S.A., Ramazanov T.S., Dzhumagulova K.N., Jumabekov A.N., and Dosbolayev M.K., // Phys. Plasmas 15, 093701. 2008.
11. Орлов Л.Н., Ажаронок В.В. // Журн. прикл. спектр., 66, 715. 1999.
12. Ажаронок В.В., И.И. Филатова, Шиманович В.Д., Орлов Л.Н. // J. Appl. Spectroscopy 69, №5, 658. 2002.
13. Райзер Ю.П., Шнейдер М.Н., Яценко Н.А. Высокочастотный емкостной разряда, - Москва. 1995.
14. Райзер Ю.П. Основы современной физики газоразрядных процессов. - М.: Наукаб 1980.
Загрузки
Выпуск
Раздел
Физика плазмы
