Исследование процесса рассеяния электрона на ионе в плазме инерционного термоядерного синтеза в магнитном поле

Авторы

  • M.K. Issanova Институт прикладных наук и информационных технологий, Казахский национальный университет им. Аль-Фараби, Казахстан, г. Алматы http://orcid.org/0000-0001-7098-471X
  • S.K. Kodanova Институт прикладных наук и информационных технологий, Казахский национальный университет им. Аль-Фараби, Казахстан, г. Алматы http://orcid.org/0000-0002-8400-7183
  • N.Kh. Bastykova Институт прикладных наук и информационных технологий, Казахский национальный университет им. Аль-Фараби, Казахстан, г. Алматы http://orcid.org/0000-0003-0223-0216
  • A.I. Kenzhebekova Институт прикладных наук и информационных технологий, Казахский национальный университет им. Аль-Фараби, Казахстан, г. Алматы http://orcid.org/0000-0002-0264-2694

DOI:

https://doi.org/10.26577/RCPh.2021.v78.i3.02

Ключевые слова:

Плотная плазма, инерционный термоядерный синтез, магнитное поле, процесс рассеяния, кулоновский логарифм

Аннотация

В данной работе изучались процессы рассеяния электрона на ионе в плазме инерционного термоядерного синтеза в магнитном поле. Были исследованы столкновения между электроном и ионом, которые взаимодействуют посредством потенциала Юкава. Также, был вычислен кулоновский логарифм в плотной плазме в магнитном поле. Проведено исследование влияние учета магнитного поля на углы рассеяния, сечение рассеяние и кулоновский логарифм. Из полученных результатов установлено, что учет магнитного поля привел к немонотонному изменению угла рассеяния и уменьшению сечения рассеяния при слабых взаимодействиях частиц. Также  выявлено, что при больших значениях параметра взаимодействия  магнитное поле не влияет на значение кулоновского логарифма. Таким образом, полученные результаты позволяют изучить влияние учета магнитного поля на процессы рассеяния электрона на ионе в приближении парных столкновений во внешнем постоянном магнитном поле в плотной плазме.

Библиографические ссылки

1 D.H.H. Hoffmann et al., Phys. Scripta, 1, 123 (2006).

2 N.A. Tahir, C. Deutch, V. Fortov et al., Phys. Rev. Lett., 96 (3), 035001 (2005).

3 J. Goff, T. Casper, S. Murray, IEEE 2011 Intern. Conf. on Electrical Machines and Systems, 20-23 Aug. 2011 (2011).

4 J.P. Freidberg, F.J. Mangiarotti, J. Minervini, Phys. Plasmas, 22 (7), 070901 (2015).

5 A. Hassanein, V. Sizyuk, Sci. Rep., 11 (1), 2069 (2021).

6 C. Toepffer, Phys. Rev. A, 66, 160 (2002).

7 Ch. Jiang, D. Li and Ch. Dong, arXiv: 2101.05943.

8 H. Nersisyan, G. Zwicknagel, Phys. Rev. E, 79, 066405 (2009).

9 C. Dong, H. Ren, H. Cai, and D. Li. Phys. Plasmas, 20, 032512 (2013).

10 T.S. Ramazanov, S.K. Kodanova, N.Kh. Bastykova, Zh.A. Moldabekov, Rec. Contr. Phys., 53 (2), 74-82 (2015).

11 T.S. Ramazanov et al., Rec. Contr. Phys., 65(2), 44-50 (2018).

12 C.A. Ordonez, M.I. Molina, Phys. Plasmas, 1, 2515 (1994).

13 T.S. Ramazanov, S.K. Kodanova, Phys. Plasmas, 8, 5049 (2001).

14 M.K. Issanova, S.K. Kodanova, T.S. Ramazanov, N.Kh. Bastykova, Zh.A. Moldabekov, C.-V. Meister, Laser. Part. Beams, 34, 457-466 (2016).

15 W.-M. Wang et.al., Phys. Rev. Lett., 114, 015001 (2015).

16 K.F.F. Laweet et al., Appl. Phys. Lett., 108, 091104 (2016).

17 S.X. Luan et al., Phys. Rev E., 94, 053207 (2016).

Загрузки

Опубликован

2021-09-06

Выпуск

Раздел

Физика плазмы

Наиболее читаемые статьи этого автора (авторов)

1 2 > >>