Принципы разработки вакуумных систем для плазменных приложений
Ключевые слова:
плазменные технологии, метод вакуумного напыления, вакуумная установкаАннотация
В статье рассмотрены принципы разработки вакуумных систем для применения в плазменных технологических процессах. Показаны преимущества импульсной плазменной обработки и методов вакуумного плазменного напыления. Рассматриваются основные приемы автоматизации и коммутации вакуума
Библиографические ссылки
1 A. Zhukeshov, Journal of Physics. Conference series, 63, 012014 (2007).
2 A.I. Morozov Vvedeniye v plazmodinamiku, (Moscow, Fizmatlit, 2006), 560 s. (in Russ)
3 B.M. Ibraev, Journal of Engeneering Thermophysics, 12, 183-190 (2003).
2 A.I. Morozov Vvedeniye v plazmodinamiku, (Moscow, Fizmatlit, 2006), 560 s. (in Russ)
3 B.M. Ibraev, Journal of Engeneering Thermophysics, 12, 183-190 (2003).
Загрузки
Как цитировать
Zhukeshov, A., Gabdullina, A., Pak, S., Amrenova, A., Kaibar, A., Кulzhanova S., & Kurmanbaev, K. (2018). Принципы разработки вакуумных систем для плазменных приложений. Вестник. Серия Физическая (ВКФ), 40(1), 28–31. извлечено от https://bph.kaznu.kz/index.php/zhuzhu/article/view/676
Выпуск
Раздел
Физика плазмы