Магнит өрісіндегі инерциялық термоядролық синтез плазмасында электронның ионда шашырау процесін зерттеу

Авторлар

  • M.K. Issanova Қолданбалы ғылымдар және ақпараттық технологиялар институты, Әл-Фараби атындағы ҚазҰУ, Қазақстан, Алматы қ. http://orcid.org/0000-0001-7098-471X
  • S.K. Kodanova Қолданбалы ғылымдар және ақпараттық технологиялар институты, Әл-Фараби атындағы ҚазҰУ, Қазақстан, Алматы қ. http://orcid.org/0000-0002-8400-7183
  • N.Kh. Bastykova Қолданбалы ғылымдар және ақпараттық технологиялар институты, Әл-Фараби атындағы ҚазҰУ, Қазақстан, Алматы қ. http://orcid.org/0000-0003-0223-0216
  • A.I. Kenzhebekova Қолданбалы ғылымдар және ақпараттық технологиялар институты, Әл-Фараби атындағы ҚазҰУ, Қазақстан, Алматы қ. http://orcid.org/0000-0002-0264-2694

DOI:

https://doi.org/10.26577/RCPh.2021.v78.i3.02

Кілттік сөздер:

Тығыз плазма, инерциялық термоядролық синтез, магнит өрісі, шашырау процесі, кулондық логарифм

Аннотация

Бұл жұмыста магнит өрісіндегі инерциялық термоядролық синтездің плазмасындағы иондағы электронның шашырау процестері зерттелді. Юкава потенциалы арқылы өзара әрекеттесетін электрон мен ион арасындағы қақтығыстар зерттелді. Сондай-ақ, магнит өрісіндегі тығыз плазмадағы кулондық логарифм есептелді. Магнит өрісін есепке алудың шашырау бұрыштарына, шашырау қимасына және кулондық Логарифмге әсері зерттелді. Алынған нәтижелерден магнит өрісін есепке алу шашырау бұрышының монотонды емес өзгеруіне және бөлшектердің әлсіз өзара әрекеттесуі кезінде шашырау қимасының төмендеуіне әкелгені анықталды. Сондай-ақ, өзара әрекеттесу параметрінің  үлкен мәндерінде магнит өрісі Кулон логарифмінің мәніне әсер етпейтіні анықталды. Осылайша, алынған нәтижелер тығыз плазмадағы сыртқы тұрақты магнит өрісінде қосарланған соқтығысулар жақындаған кезде иондағы электронның шашырау процестеріне магнит өрісін есепке алудың әсерін зерттеуге мүмкіндік береді.

Библиографиялық сілтемелер

1 D.H.H. Hoffmann et al., Phys. Scripta, 1, 123 (2006).

2 N.A. Tahir, C. Deutch, V. Fortov et al., Phys. Rev. Lett., 96 (3), 035001 (2005).

3 J. Goff, T. Casper, S. Murray, IEEE 2011 Intern. Conf. on Electrical Machines and Systems, 20-23 Aug. 2011 (2011).

4 J.P. Freidberg, F.J. Mangiarotti, J. Minervini, Phys. Plasmas, 22 (7), 070901 (2015).

5 A. Hassanein, V. Sizyuk, Sci. Rep., 11 (1), 2069 (2021).

6 C. Toepffer, Phys. Rev. A, 66, 160 (2002).

7 Ch. Jiang, D. Li and Ch. Dong, arXiv: 2101.05943.

8 H. Nersisyan, G. Zwicknagel, Phys. Rev. E, 79, 066405 (2009).

9 C. Dong, H. Ren, H. Cai, and D. Li. Phys. Plasmas, 20, 032512 (2013).

10 T.S. Ramazanov, S.K. Kodanova, N.Kh. Bastykova, Zh.A. Moldabekov, Rec. Contr. Phys., 53 (2), 74-82 (2015).

11 T.S. Ramazanov et al., Rec. Contr. Phys., 65(2), 44-50 (2018).

12 C.A. Ordonez, M.I. Molina, Phys. Plasmas, 1, 2515 (1994).

13 T.S. Ramazanov, S.K. Kodanova, Phys. Plasmas, 8, 5049 (2001).

14 M.K. Issanova, S.K. Kodanova, T.S. Ramazanov, N.Kh. Bastykova, Zh.A. Moldabekov, C.-V. Meister, Laser. Part. Beams, 34, 457-466 (2016).

15 W.-M. Wang et.al., Phys. Rev. Lett., 114, 015001 (2015).

16 K.F.F. Laweet et al., Appl. Phys. Lett., 108, 091104 (2016).

17 S.X. Luan et al., Phys. Rev E., 94, 053207 (2016).

Жүктелулер

Жарияланды

2021-09-06

Шығарылым

Бөлім

Физика плазмы