Электрические и оптические свойства диэлектрического копланарного поверхностного барьерного разряда
Кілттік сөздер:
плазма атмосферного давления, диэлектрический барьерный разряд, электрические и оптические свойства, диэлектрический копланарный поверхностный барьерный разрядАннотация
В данной статье были изучены электрические и оптические свойства диэлектрического копланарного поверхностного барьерного разряда (ДКПБР). Были получены вольт-амперная характеристика и спектры излучения диэлектрического копланарного поверхностного барьерного разряда. Динамическая вольт-амперная характеристика была получена с использованием пояса Роговского, высоковольтного щупа и осциллографа с высокой разрешающей способностью. С целью дальнейшего исследования обработки различных материалов была измерена температура поверхности RPS400, на которой зажигалась плазма. Температура поверхности измерялась с помощью пирометра. Результаты исследований электрических свойств ДКПБР показали, что разряд носит емкостный характер, с наблюдаемыми пиками тока проводимости поверх тока смещения, которые возникают из-за наличия одиночных микроразрядных каналов. Результаты оптико-эмиссионной спектроскопии показали наличие в спектре излучения ДКПБР молекулярных полос азота, а именно второй положительной (N2 (С-В)) и первой отрицательной (N2 + (B-X)) систем, а также линии ОН и NО с низкой интенсивностью.
Библиографиялық сілтемелер
2 M . Laroussi, IEEE Transactions on Plasma Science 43(3), 13 (2015).
3 M . Keidar, Plasma Sources Sci. Technol.24, 138 (2015).
4 D. Mariotti, T. Belmonte, J. Benedikt, T. Velusamy, G. Jain, and V. Svrcek, Plasma Process. Polym. 13, 70 (2016).
5 K. Lakshman, J. Gerard, and J. de Groot, Plasma Process. Polym. 12, 136 (2015).
6 F. Massines, C. Sarra-Bournet, F. Fanelli, N. Naude, and N. Gherardi, Plasma Process. Polym. 105 (2012).
7 J. Christopher, J. Phys. D: Appl. Phys. 49, 120 (2016).
8 U. Kortshagen, Plasma Chem Plasma Process. 36, 105 (2016).
9 Dogan and C. Mauritius, M. van de Sanden, Plasma Process. Polym. 13, 19 (2016).
10 N. Kyong, M. Seung, M. Anurag, and Y. Geun, Thin Solid Films. 103 (2015).
11 H. Sun, Y. Chiu, and W. Chen, Polymer Journal 49(61), 73 (2017).
12 V . Gibalov and G. Pietsch, J. Phys. D: Appl. Phys. 33, 2618-2636 (2004).
13 G. Pietsch, Contrib. Plasma Phys. 41, 620-628 (2001).
14 E. Usenov, M. Gabdullin, M. Dosbolaev, T. Daniyarov, and T. Ramazanov, Recent Contributions to Physics, 1(56), 13 (2016). (in Russ)
15 Adamovich, J. Phys. D: Appl. Phys. 50(323001), 84 (2017).
16 J. Jeon, T. Rosentreter, Y. Li, G. Isbary, at al., Plasma Process. Polym. 11, 426-436 (2014).
17 Pazil, A. Akildinova, T. Daniyarov, E. Үsenov, M. Dosbolaev, T. Ramazanov, and M. Gabdullin, Journal of the Problems of Evolution of Open Systems.2, 52 (2016). (in Russ)
18 R. Reece, Phys. of Plasmas.10(5), 2117 (2003).
19 E. Aminy, Flex. Print. Electron. 2(013001), 201 (2017).
20 R. Brandenburg, Plasma Sources Science and Technology 26, 29 (2017).
21 M . Ito, J. Oh, T. Ohta, M. Shiratani, and M. Hori, Plasma Process Polym. 1700073, 1-15 (2017).
22 R. Gandhiraman, E. Singh, Applied Physics Letters. 108, 234 (2016).
23 http://www.roplass.cz/products/product/rps400-roplass-plasma-system-400-w/
24 J. Cech, M. Zemánek, P. Stahel, H. Dvoráková, and M. Cernák, Acta Polytechnica 54(6), 383-388 (2014).
25 B. Offerhaus, J. Lackmann, and F. Kogelheide, Plasma Process Polym. 1-14 (2017).
