Модификацияланған магнентрондық тозаңдандыру әдісімен мыс нанобөлшектерін өсіру
Кілттік сөздер:
Газовый разряд, магнетронное распыление, наночастицы медиАннотация
Қазіргі таңда наноматериалдар өздерінің ерекше қасиеттері мен қолдану аясының кеңдігіне байланысты жан-жақты зерттелуде. Мыс нанобөлшектері химиялық, физикалық, катализдік, антибактериалық және жылу-өткізгіштік қасиеттеріне байланысты оларды медицина, электроника, энергетикада және т.б. салаларда қолдану үлкен қызығушылықтар тудырады. Мыс нанобөлшектерін синтездеу Ag, Au және Pt сияқты асыл металдармен салыстырғанда экономикалық тұрғыдан тиімді. Химиялық қалпына келтіру, микроэмульсия әдісі, электролиттік синтез, золь-гель әдісі, бу фазасынан вакуумды тұндыру және т.б. сияқты мыс нанобөлшектерін синтездеудің әр түрлі әдістері бар. Нано және макробөлшектерді алудың эффективті әрі таза тәсілі - магнетронды тозаңдандыру әдісі. Мысалы, нанобөлшектерді термиялық әдіспен алу, олардың өшемдерін бақылауды қиындатады. Бұл жұмыста магнетрондық тозаңдандыру әдісі көмегімен синтезделген және өсірілген нанобөлшектердің газдық разряд параметіріне тәуелділігі зерттеліп, эксперименттік нәтижелері келтірілген. Шығыстағы нанобөлшектердің өлшемдері камерадағы қысым шамасын арттырғанда кішірейетіні және разряд тогының күшін арттырғанда өсетіндігі байқалды. Алынған үлгілер сканерлеуші электрондық микроскоп (СЭМ) көмегімен зерттелді. Сонымен қатар, эксперименттерде алынған нанобөлшектердің химиялық құрамы мен өлшемдері бойынша таралуы көрсетілген. Синтезделген мыс нанобөлшектердің диаметрі 36 нм-ден 300 нм аралығында.
Библиографиялық сілтемелер
2 M. Thieme, R. Frenzel, S. Schmidt, F. Simon, A. Henning, H. Worch, K. Lunkwitz, and D. Scharnweber, Advanced engineering materials, 3 (9), 691–695 (2001).
3 M. Shiratani, H. Kawasaki, T. Fukuzawa, T. Yoshioka, Y. Ueda, S. Singh and Y. Watanabe, J. Appl. Phys., 79, 104–109 (1996).
4 H. Kersten, H. Deutsch, E. Stoffels, W.W. Stoffels, G.M.W. Kroesen and R. Hippler, Contrib. Plasma Phys., 41, 598–609 (2001).
5 J. Shikha, N. Niharika and D. Vijay, Advances in Applied Science Research, 6(6), 171–180 (2005).
6 M. Imran Din & R. Rehan, Analytical Letters, 50 (1), 50–62 (2017).
7 A.M.R. Galletti, C. Antonetti, M. Marracci, F. Piccinelli, and B. Tellini, Applied Surface Science, 280, 610–618 (2013).
8 M.J. Hajipour, K.M. Fromm, A.A. Ashkarran, D. Jimenez de Aberasturi, I. Ruiz de Larramendi, T. Rojo, V. Serpooshan, W. J. Parak and M. Mahmoudi, Trends in Biotechnology, 30 (10), 499–511 (2013).
9 L. Wang, C. Hu, L. Shao, International Journal of Nanomedicine, 12, 1227–1249 (2017).
10 H. Hahn and R.S. Averback, Journal of Applied Physics, 67, 1113–1115 (1990).
11 M. Salavati-Niasari, F. Davar, Materials Letters, 63, 441–443 (2009).
12 Y.H. Kim, D.K. Lee, B.G. Jo, J.H. Jeong, and Y.S. Kang, Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects, 284, 364–368 (2006).
13 K. Woo, D. Kim, J.S. Kim, S. Lim, J. Moon, Langmuir, 25, 429–433 (2009).
14 B.K. Park, D. Kim, S. Jeong, J. Moon, and J.S. Kim, Thin Solid Films, 515, 7706–7711 (2007).
15 M. Pileni, and I. Lisiecki, Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Eng. Aspects, 80, 63–68 (1993).
16 I. Safi, Surface and Coatings Technology, 127, 203–219 (2000).
17 G.S. Kim, B.S. Kim, S.Y. Lee, and J.H. Hahn, Surface & Coatings Technology, 200(5), 1669–1675 (2005).
18 Thi My Dung Dang, Thi Tuyet Thu Le, Eric Fribourg-Blanc, and Mau Chien Dang, Adv. Nat. Sci.: Nanosci. Nanotechnol, 2, 015009 (2011).
19 S. Kapoor and T. Mukherjee, Chemical Physics Letters, 370, 83–87 (2003).
20 M. Salavati-Niasari, F. Davar, and N. Mir, Polyhedron, 17, 3514–3518 (2008).
21 M.K. Dosbolayev, A.U. Utegenov, and T.S. Ramazanov, IEEE Transactions on Plasma Science, 44(4), 469–472 (2016).
22 S.A. Orazbayev, Y.A. Ussenov, T.S. Ramazanov, M.K. Dosbolayev, and A.U. Utegenov, Contributions to Plasma Physics, 55 (5), 428–433 (2015).
23 V.A. Lisovskiy, S.D. Yakovin, and V.D. Yegorenkov, J. Phys. D: Appl. Phys., 31, 2722–2730 (2000).
24 H. Haberland, Z. Insepov, M. Kurrais, M. Mall, M. Moseler, and Y. Thurner, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, 80-81, 1320–1323 (1993).
25 H. Haberland, M. Mall, M. Mossler, Y. Qiang, T. Reiners, and Y. Thurner, Journal of Vacuum Science & Technology A, 12, 2925–2930 (1994).
26 P. Solar, O. Polonskyi, A. Choukourov, A. Artemenko, H. Biederman, and D. Slavinska, WDS'10 Proceedings of Contributed Papers, 3, 36–41 (2010).
