Получение тонких пленок SIC методом PECVD
Кілттік сөздер:
высокочастотный разряд, газовая смесь, тонкие пленки, карбид кремния, спектроскопия комбинационного рассеяния света, сканирующая электронная микроскопия, структураАннотация
В работе представлены результаты получения карбида кремния в плазме высокочастотного разряда с приложением магнитного поля. В результате были получены тонкие пленки карбида кремния и кубического карбида кремния, которые отличаются по своей структуре и некоторым полупроводниковым свойствам.
Библиографиялық сілтемелер
1. Nagasawa H. Et al. Properties of Free-Standing 3C-SiC Monocrystals Grown on Undulant-Si (001) Substrate //Silicon Carbide and Related Materials. - 2002. - P. 177-181.
2. Матузов А.В. и др. Методика эпитаксиального наращивания кубического карбида кремния на кремнии по технологии CVD // Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. - 2007. - № 3. - С. 22-26.
3. Lebedev A.A. Heterojunctions and superlattices based on silicon carbide // Semicond. Sci. Technol. – 2006. – Vol. 21. – P.R17-R34.
2. Матузов А.В. и др. Методика эпитаксиального наращивания кубического карбида кремния на кремнии по технологии CVD // Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. - 2007. - № 3. - С. 22-26.
3. Lebedev A.A. Heterojunctions and superlattices based on silicon carbide // Semicond. Sci. Technol. – 2006. – Vol. 21. – P.R17-R34.
Жүктелулер
Как цитировать
Omarov, M., Prikhodko, O., Klimenov, V., Aitmukan, T., Alpysbayeva, B., & Nevmerzhitsky, I. (2012). Получение тонких пленок SIC методом PECVD. ҚазНУ Хабаршысы. Физика сериясы, 42(3), 37–41. вилучено із https://bph.kaznu.kz/index.php/zhuzhu/article/view/704
Шығарылым
Бөлім
Физика конденсированного состояния и проблемы материаловедения. Нанонаука