Исследование влияния влажной химической обработки на поверхность кремниевых монокристаллических пластин
Кілттік сөздер:
фотовольтаика, аморфный кремний, HIT, фотоэлемент, пассивацияАннотация
В ходе выполнения работ были проведены эксперименты по влажной химической обработке монокристаллических кремниевых пластин. Были получены образцы монокристаллических кремниевых пластин после различных этапов влажной химической обработки и измерены времена жизни неосновных носителей в данных образцах. Помимо исследования влияния каждого шага химической чистки на свойства пластин монокристаллического кремния были проведены опыты направленные на изучение влияния различных рецептов влажной химической чистки кремниевых пластин на время жизни неосновных носителей заряда (ННЗ) и коэффициента отражения света от поверхности образцов.
Были выбраны несколько рецептов метода влажной химической обработки. А именно, изменялась концентрация травящего раствора и время травления в данной методике, а затем проводились измерения образцов.
Результаты исследований показали, что увеличение времени жизни ННЗ в пластинах начинается со стадии травления нарушенного слоя, в то время как само обезжиривание на время жизни ННЗ влияния не оказывает. Также, было показано, что важную роль играет очищение поверхности от металлов и финальная обработка в плавиковой кислоте. Выявлено, что для достижения лучших результатов травления гораздо эффективнее увеличивать время обработки пластин в растворе нежели концентрацию щёлочи.
Библиографиялық сілтемелер
2 J. Schmidt, and A.Cuevas, J. Appl. Phys., 86, 3175 (1999).
3 S. Myers, M. Seibt, and W. Schroeter, J. Appl. Phys., 88, 3795–3819 (2000).
4 F. Duerinckx, and J. Szlufcik, Solar Energy Materials and Solar Cells, 72, 231–246 (2002).
5 H. Seidel et al., J. Electrochem. Soc., 137, 3612 (1990).
6 P. Campbell, and M.A. Green, J. Appl. Phys., 62, 243–249 (1987).
7 S. Olibet et al., Phys. Status Solidi Appl. Mater. Sci., 207, 651– 656 (2010).
8 A. Froitzheim et al., Journal of Non-Crystalline Solids, 299-302, 663–667 (2002).
9 W. Kern, Overview and Evolution of Silicon Wafer Cleaning Technology (Handbook of Silicon Wafer Cleaning Technology, 2nd Edition, 2008), p.3–92.
10 K. Reinhardt, and W. Kern, Handbook of Silicon Wafer Cleaning Technology, 2nd Ed. (William Andrew Inc., 2008), p.396. http://www.sciencedirect.com/science/book/9780815515548.
